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        工業純水設備應用的重要性

        2018-06-27  來自: 東莞市水視界環保科技有限公司 瀏覽次數:92

        純水在光學領域中的重要作用日益突出,光學領域的相關業務需求也正在飛速發展,觸摸屏,顯像管,半導體等等很多行業在國內已經量化生產,對純水設備的需求同步也普及化。

        純水水質已成為影響光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在生產中,超純水主要是為了用做相關清洗及有關生產過程中的原材料配制。不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。

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        清洗是指清除工件表面上液體和固體的污染物,使工件表面達到一定的潔凈程度。清洗過程是清洗介質、污染物、工件表面三者之間相互作用,是一種復雜的物理過程,清洗不僅與污染的性質、種類、型態以及粘附程度有關。與清洗介質的理化性質、清洗性能、工件的材質、表面狀態有關、還與清洗的條件如溫度、壓力以及附加的超聲振動、機械振動等因素有關。

        清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產中,電子管陰極涂甫碳酸鹽,如其中混入雜質,就會影響電子的發射,進而影響電子管的放大性能及壽命,因此,其生產原材料中一部分需要超純水進行配制,在顯象管和陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質,是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍;含奇有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

        在晶體管、集成電路生產中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬會使絕緣膜耐壓不良,重金屬會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,V族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷會使P型硅片上的局部區域變化為N型硅而導致器件性能變壞,水中的顆粒(包括細菌)如吸咐在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。因此純水系統/純水的使用在電子工業中是著無可替代的。

        純水系統在電子工業主要是電子元器件生產中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在電子元器件生產中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。

        純水設備在光學領域內的渠道開發,在純水設備制取工藝上基本上都是以超純水為主,常見的工藝流程為雙級反滲透+EDI。

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        東莞市水視界環保科技有限公司專注于生產大型反滲透工業純水設備、電鍍玻璃清洗反滲透水處理設備、醫藥行業用純水設備、制取飲料行業的飲用純凈水設備等。全心全意為客戶解決問題是我們的不懈努力,我們致力于為客戶提供更完善的服務!

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